光譜輻照度和曝光的紫外精確測量對于優(yōu)化紫外固化過(guò)程的設計和生產(chǎn)控制至關(guān)重要。 本篇我們將介紹一些測量方法以及誤差源，并討論輻射計和曝光計，以及幾種將它們用于中壓和LED系統的工藝規范和故障排除的技術(shù)。
有效輻射測量的最重要原則是，測量必須與工藝相關(guān)，也就是必須與最終產(chǎn)品的物理特性相關(guān)。這也適用于系統設計中對UV燈的光學(xué)特性（或規格）的需求。
工藝設計決定了待固化化學(xué)品的曝光要求 - 如光強分布、光譜分布、功率水平、峰值能量比、溫度和時(shí)間（或速度）。 除了幫助優(yōu)化工藝之外，輻射測量還可用于量化測試成功的曝光參數，以便工藝可以得到有效復制，這是從實(shí)驗室到實(shí)際生產(chǎn)工藝設計轉移的重要步驟。 輻射測量功能可提供關(guān)鍵工藝要求的量化信息，并建立工藝成功的條件或“渠道”。
